對多種氣體的快速監(jiān)測、報警、極低濃度的測量、寬廣的測量區(qū)域、高靈敏的響應是半導體工業(yè)的要求之一。深紫外光刻工藝特別關注氨、胺、N-甲基吡咯烷酮NMP、酸等的濃度測量。當這些氣體與化學放大的光刻膠發(fā)生反應時，半導體器件的質量將受到深刻影響。傳統(tǒng)和古老的方法大多采用間接測量和分析方法。這些方法包括沖擊過濾法、離子色譜法和化學熒光法，這些方法分析速度太慢，操作太復雜，價格昂貴，測量結果不準確。

　　

　　AMC空氣分析證明，深紫外光刻工藝深受多種微污染物的影響，對許多微污染物特別敏感，如氨氣或酸性氣體，會對半導體生產(chǎn)帶來危害。雖然隨著深紫外耐腐蝕材料技術的發(fā)展，長期連續(xù)的實時監(jiān)測已經(jīng)減少，事實上，空氣分子污染物（AMC）的實時測量對產(chǎn)品的質量非常重要。
 

　　

　　AMC空氣分析監(jiān)測還集成了一個多點監(jiān)測系統(tǒng)，可以將氣體依次抽到分析儀或傳感器上，并讀出測量結果。嵌入式報警、報告和分析軟件由在半導體行業(yè)有多年經(jīng)驗的工程師集體開發(fā)。模擬模塊可以輸出4-6臺分析儀或傳感器的數(shù)據(jù)。每臺分析儀都配備了一臺內(nèi)置計算機，可以存儲和輸出數(shù)據(jù)。它還支持遠程網(wǎng)絡控制，遠程操作可以實現(xiàn)多層次的管理權限控制和操作。

　　

　　AMC空氣分析儀基于CEAS（腔體增強吸收光譜）技術，儀器使用簡單，操作方便。所有部件（包括內(nèi)置真空泵、鍵盤、鼠標、顯示器等）在幾分鐘內(nèi)就可以開始記錄數(shù)據(jù)。其他大氣中的水蒸氣、CO2、O2、甲烷等不會對HCL、HF、NH3等造成交叉干擾。內(nèi)置計算機可將大量數(shù)據(jù)存儲到內(nèi)置硬盤，通過數(shù)字接口或模擬接口傳輸數(shù)據(jù)，通過互聯(lián)網(wǎng)遠程存儲或記錄數(shù)據(jù)，高質量的數(shù)據(jù)庫適用于苛刻的半導體微量氣體應用。